硅晶圓是半導體制造過程中必不可少的材料之一。它是一種無機非金屬材料，主要由硅元素構成，具有良好的穩定性。在半導體制造中，硅晶圓通常用作集成電路、太陽能電池和其他電子設備的基板。硅晶圓的生產需要高精度的加工和嚴格的質量控制，以確保晶圓的純度和一致性。

　　當硅晶圓被污染時，需要對硅晶圓進行清洗，以此保證它作為電子器械生產原料的純凈度。硅晶圓清洗并不是自來水沖洗就可以的，因為它是精密材料，必須要使用超純水清洗才可以保護它不受雜質污染。超純水設備是生產超純水的專用技術產品，可以穩定連續地生產大批量品質安全可靠的超純水。

　　超純水設備采用了“雙級反滲透系統+EDI模塊”的技術工藝。反滲透膜可以有效去除水中含有的鈣、鎂、鉀等金屬離子和其他微量元素，還可以將細菌、微生物有效脫除。EDI系統有效保證了超純水品質，脫鹽處理過程中不會產生酸堿廢液，不會給后續工藝帶來處理負擔，省去了酸堿中和處理的步驟，簡化了生產工藝。

　　超純水設備內部還設置了獨有的靶向離子交換系統，可以將難處理的硼及其他離子定向去除。由于反滲透膜技術的存在，在超純水生產時可以實現系統的帶電荷運行，離子遷移速度會更快，脫鹽效果會更好。除此之外，超純水設備還實現了高度自動化運行，操作非常靈活，節約了人員力量的投資成本。

　　超純水的水質純度高，主要用作工業生產原料水和精密器械清洗水。采用超純水清洗硅晶圓能有效保證硅晶圓的無菌性和純凈度。超純水設備可以穩定連續生產超純水，不需要更換樹脂，具有很高的應用價值。

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　　編輯：新奇   技術：加菲