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保持電子芯片的干凈清潔是維護其正常功能的重要工作，當電子芯片被灰塵、微粒、細菌等雜質污染時，其功能就會大打折扣甚至直接報廢。為了確保電子芯片功能穩定、降低生產企業的報廢率，對芯片進行清洗就要采用到超純水。超純水不同于普通的純凈水，它的成分簡單，除了水分子之外幾乎不含有任何有機物、微生物、細菌、金屬離子，在沖洗電子芯片過程中不會影響其功能穩定。
EDI超純水設備可以穩定連續生產超純水，采用了EDI技術、反滲透技術和深度脫鹽技術。EDI技術應用時不會產生酸堿廢液，后續工藝避免了酸堿中和處理，環保性能很強。此外，EDI模塊進水為二級反滲透產水，經EDI系統脫鹽后，EDI濃水水質仍優于一級反滲透產水，可回流至一級反滲透產水箱。
反滲透環節主要是反滲透膜發揮作用，它的膜孔徑很小、抗污染能力強，可以有效截留所有離子，充分去除微生物、礦物質和微量元素等雜質，只保留氫氧原子。深度脫鹽工藝段可以對水中的鹽分充分去除，根本上保證超純水出水水質。總之，EDI超純水設備生產超純水連續穩定、技術可靠、安全性高，能為電子芯片清洗需要的超純水進行穩定供給，為生產企業提供便利。
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