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超純水，定義為電阻率超過18 MΩ*cm，幾乎不含有任何雜質的水，是半導體制造中最為嚴苛的用水標準。...
超純水設備通過精密的反滲透、EDI以及拋光混床技術，實現了對水中離子、有機物、顆粒物等雜質的深度去除，確保了供給芯片制造的超純水具有極高的純度。...
超純水設備生產超純水具有出水連續穩定、能耗低、無污染、自動化強等優勢。它采用了“反滲透+EDI+拋光混床”的技術設計，嚴格執行超純水生產標準，出水質量穩定，能達到18MΩ*cm(25℃)。...
EDI超純水設備采用了“雙級反滲透+EDI”的結合工藝，出水水質電阻率可達16MΩ*cm(25℃)。它結合了膜分離技術，通過利用反滲透膜對離子類物質的強大過濾能力，可以充分去除超純水中含有的金屬離子、礦...
超純水設備采用的這套組合工藝，具有出水連續、水質穩定、能耗低、無污染、自動化等優勢。...
工業超純水設備具有生產質量穩定、無酸堿再生、體積小、自動化強的優點。它還采用了智能化程序設計，操作更加靈活，可根據具體需求調整運行參數，方便快捷，能為半導體生產穩定供水。...
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